Verfahren zum Bestimmen einer lateralen Position eines Substrats in einer lithographischen Belichtungseinrichtung,申请号DE2003145496-传众专利搜索

发明名称	Verfahren zum Bestimmen einer lateralen Position eines Substrats in einer lithographischen Belichtungseinrichtung
摘要
申请公布号	DE10345496(B4)	申请公布日期	2007.12.20
申请号	DE2003145496	申请日期	2003.09.30
申请人	INFINEON TECHNOLOGIES AG	发明人	STAECKER, JENS;HOMMEN, HEIKO
分类号	G03F9/00;H01L23/544	主分类号	G03F9/00
代理机构		代理人
主权项
地址

您可能感兴趣的专利