首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Verfahren und System zum Aufbau eines bidirektionalen Tunnels
摘要
申请公布号 DE602005003189(D1) 申请公布日期 2007.12.20
申请号 DE20056003189T 申请日期 2005.10.26
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD. 发明人 PARK, SOO-HONG;LEE, MIN-HO
分类号 H04L29/06 主分类号 H04L29/06
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com