| 发明名称 | 用于冷却支架的冷却系统和冷却方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于冷却支架的冷却系统和冷却方法。这种冷却系统用于对一台带有一个可绕一旋转轴旋转地支承在一支架壳体(2)中的X射线源(4)的计算机断层造影设备(1)的支架(3)进行冷却，其中该支架壳体(2)借助至少一个轴承(12，13)可运动地支承在该计算机断层造影设备(1)的一个固定部件(7)上。该冷却系统具有一个用于在至少这些轴承(12，13)之一的区域将冷却气流(K，W)从该固定部件(7)导送到该支架壳体(2)中和/或从该支架壳体(2)导送到该固定部件(7)中的冷却气体输送装置(14，15，16，17，29，30，31，32)。此外还描述了一种用于冷却支架的相应冷却方法。 | ||
| 申请公布号 | CN100355397C | 申请公布日期 | 2007.12.19 |
| 申请号 | CN200410002878.5 | 申请日期 | 2004.01.20 |
| 申请人 | 西门子公司 | 发明人 | 汉斯－于尔根·米勒 |
| 分类号 | A61B6/03(2006.01);H05G1/02(2006.01);F25D31/00(2006.01) | 主分类号 | A61B6/03(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 吴观乐;侯宇 |
| 主权项 | 1.一种用于对一台带有一个可绕一旋转轴旋转地支承在一支架壳体(2)中的X射线源(4)的计算机断层造影设备(1)的支架(3)进行冷却的冷却系统，其中该支架壳体(2)借助至少一个轴承(12，13)可运动地支承在该计算机断层造影设备(1)的一个固定部件(7)上，其特征在于：其具有一个用于在至少这些轴承(12，13)之一的区域将冷却气流(K，W)从该固定部件(7)导送到该支架壳体(2)中和/或从该支架壳体(2)导送到该固定部件(7)中的冷却气体输送装置(14，15，16，17，29，30，31，32)。 | ||
| 地址 | 联邦德国慕尼黑 | ||