| 发明名称 | 用于化学气相沉积反应器的多气体分配喷射器 | ||
| 摘要 | 一种用于化学气相沉积反应器(100)的气体分配喷射器(150)具有面向下游朝向基底(135)设置在一内表面(155)上的间隔开的部位处的前驱气体入口(160、165)，并具有设置在前驱气体入口(160、165)之间的载体开口(167)。一个或多个前驱气体(180、185)通过前驱气体入口(160、165)引入，而一基本上与前驱气体不反应的载体气体(187)通过载体气体开口(167)引入。载体气体将形成在喷射器(150)上的沉积物减到最少。载体气体开口可由形成表面的多孔板(230)或通过散布在前驱入口之间的载体入口(167)提供。气体入口可以是可移去的(1780)或同轴的(1360)。 | ||
| 申请公布号 | CN101090998A | 申请公布日期 | 2007.12.19 |
| 申请号 | CN200580030594.X | 申请日期 | 2005.07.29 |
| 申请人 | 维高仪器股份有限公司 | 发明人 | E·A·阿穆尔;A·谷拉瑞;L·卡丁斯基;R·多普哈莫;G·S·唐帕;M·凯兹 |
| 分类号 | C23C16/00(2006.01);C23F1/00(2006.01) | 主分类号 | C23C16/00(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 张兰英 |
| 主权项 | 1.一种化学气相沉积的方法，包括：(a)将作为多个气流的至少一个前驱气体通过气体分配喷射器内多个间隔开的前驱入口排放到反应腔室内，以使所述气流具有沿远离所述喷射器朝向设置在所述腔室内的一个或多个基底的下游方向的速度分量，所述至少一个前驱气体反应而形成沉积在所述一个或多个基底上的反应沉积物；而且，同时地(b)在所述前驱入口的多个相邻的入口之间，将至少一个与所述至少一个前驱气体基本上不反应的载体气体从所述喷射器排放到所述腔室内。 | ||
| 地址 | 美国纽约州 | ||