发明名称 | 磨抛机自动滴研磨液装置 | ||
摘要 | 本实用新型一种磨抛机自动滴研磨液装置,包括:一漏斗;一软管,该软管与漏斗下端连接;一控制开关,该控制开关位于软管上。该控制开关包括:一滑块,该滑块大致为一梯形,该滑块中间有一孔,该滑块梯形的斜面平行有一滑槽,在滑槽装有一压轮,该压轮压制于软管,所述的软管穿过控制开关上的孔。 | ||
申请公布号 | CN200991855Y | 申请公布日期 | 2007.12.19 |
申请号 | CN200620158773.3 | 申请日期 | 2006.12.07 |
申请人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明人 | 王大拯 |
分类号 | B24B57/02(2006.01) | 主分类号 | B24B57/02(2006.01) |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 汤保平 |
主权项 | 1、一种磨抛机自动滴研磨液装置,其特征在于,包括:一漏斗;一软管,该软管与漏斗下端连接;一控制开关,该控制开关位于软管上。 | ||
地址 | 100083北京市海淀区清华东路甲35号 |