发明名称 | 平面镜片研磨方法 | ||
摘要 | 一种平面镜片研磨方法,首先,置放镜片于研磨衬垫上,镜片具有光学膜及待研磨面。接着,以流体导引管罩住镜片,流体导引管具有流体入口端及流体出口端。流体出口端是位于研磨衬垫的上方,并纳入镜片。然后,由流体入口端连续通入一流体于流体导引管中,流体是由流体出口端流出。流体可沿着光学膜的表面的法线方向平均地施力于光学膜的表面上。接着,沿着研磨衬垫的表面的切线方向移动研磨衬垫,以研磨待研磨面。 | ||
申请公布号 | CN100355530C | 申请公布日期 | 2007.12.19 |
申请号 | CN200310102857.6 | 申请日期 | 2003.10.22 |
申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 曹义昌;林文章 |
分类号 | B24B13/00(2006.01) | 主分类号 | B24B13/00(2006.01) |
代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 任永武 |
主权项 | 1.一种平面镜片研磨方法,至少包括:置放一镜片于一研磨衬垫的表面上,其中,该镜片具有相对的一光学膜及一待研磨面,该待研磨面是与该研磨衬垫的表面接触;以一流体导引管罩住该镜片,其中,该流体导引管具有相对的一流体入口端及一流体出口端,该流体出口端具有数个夹持挡板,该流体出口端是位于该研磨衬垫的上方,并纳入该镜片,这些夹持挡板是与该镜片的侧面接触并夹持该镜片;由该流体入口端连续通入一流体于该流体导引管中,该流体是由该流体出口端流出,其中,该流体是可沿着该光学膜的表面的法线方向平均地施力于该光学膜的表面上,使得该待研磨面与该研磨衬垫紧密接触;以及沿着该研磨衬垫的表面的切线方向移动该研磨衬垫,以研磨该待研磨面。 | ||
地址 | 台湾省新竹科学工业园区新竹市力行二路一号 |