发明名称 执行等离子化学气相沉积工艺的设备和制造光纤的方法
摘要 本发明涉及一种用于执行等离子化学气相沉积工艺的设备,通过该设备能够将一层或多层掺杂或不掺杂的二氧化硅沉积在细长玻璃基管的内部。本发明还涉及一种通过这样一种设备制造光纤的方法。
申请公布号 CN101089223A 申请公布日期 2007.12.19
申请号 CN200710109083.8 申请日期 2007.06.18
申请人 德雷卡通信技术公司 发明人 J·A·哈特休克;M·科斯坦;M·J·N·范斯特拉伦;R·H·M·德克尔斯
分类号 C23C16/513(2006.01);C23C16/40(2006.01);G02B6/00(2006.01) 主分类号 C23C16/513(2006.01)
代理机构 北京市金杜律师事务所 代理人 苏娟
主权项 1.一种用于执行等离子化学气相沉积工艺的设备,通过该设备能够将一层或多层掺杂或不掺杂的二氧化硅沉积在细长玻璃基管的内部,该设备包括细长的微波波导管,该波导管伸入一个共振腔,该共振腔围绕一圆柱轴线呈大致圆柱形对称地形成,所述基管沿着该圆柱轴线设置,其中所述共振腔为大致环形并具有圆柱形内壁和圆柱形外壁,并且其中所述圆柱形内壁包括围绕所述圆柱轴线以整个圆形延伸的狭槽,并且其中所述微波波导管具有纵向轴线,该纵向轴线大致垂直于所述圆柱轴线延伸,以形成同轴波导管,还具有相对于所述纵向轴线以一个角度延伸的轴线,以形成馈电波导管,天线能够沿着所述纵向轴线在所述同轴波导管中运动,其特征在于:所述天线将所述馈电波导管分成两个部分。
地址 荷兰阿姆斯特丹市