发明名称 |
等离子体处理装置和等离子体处理方法 |
摘要 |
本发明涉及微波等离子体处理装置,利用波长可变物质,使波导管长度最优。微波等离子体处理装置(100)包括波导管(30)、有多个槽缝(31)的槽缝天线(32)、多个电介体(33)和处理室(U)。微波依次在波导管(30)、槽缝(31)、电介体(33)传播,供给到处理室(U),使气体等离子体化,处理基板(G)。在波导管(30)内端面(C)附近填充氧化铝(50)及特氟隆(35)。由于管内波长(λg)在氧化铝(50)中比特氟隆(35)中短,当微波在波导管(30)中传播时,与只填充特氟隆(35)相比,从波导管(30)端面(C)至最短槽缝间的物理特性上的长度保持为λg/4,并能缩短其间的机械长度。结果,没有波导管端部的死空间(D),能够等间隔配置电介体(33)。 |
申请公布号 |
CN101090598A |
申请公布日期 |
2007.12.19 |
申请号 |
CN200710109175.6 |
申请日期 |
2007.06.14 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
堀口贵弘 |
分类号 |
H05H1/46(2006.01);H01L21/02(2006.01) |
主分类号 |
H05H1/46(2006.01) |
代理机构 |
北京纪凯知识产权代理有限公司 |
代理人 |
龙淳 |
主权项 |
1.一种等离子体处理装置,其特征在于,包括:传播微波的波导管;具有与所述波导管邻接的多个槽缝,使在所述波导管中传播的微波通向所述多个槽缝的槽缝天线;第一波长可变物质,填充在所述波导管内部并使微波的管内波长λg变化为第一波长;第二波长可变物质,代替所述第一波长可变物质插入从反射微波的所述波导管的端面至最接近该端面的槽缝中央之间,使在该插入部分中传播的微波的管内波长λg变化为比第一波长短的第二波长;多个电介体,与所述槽缝天线邻接配置并使通向所述槽缝天线的多个槽缝的微波透过;和处理室,利用透过所述多个电介体后的微波使气体等离子体化,对被处理体进行等离子体处理。 |
地址 |
日本东京都 |