| 发明名称 | 一种真空灭弧室用的新型触头 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种真空灭弧室用的新型触头，它包括凸触头(1)和凹触头(2)，凸触头(1)和凹触头(2)均为圆柱体，凸触头(1)的一个端面为凸出形，凹触头(2)的一个端面为凹陷形，凸触头(1)和凹触头(2)成对使用，两个触头接触时，凸触头(1)的凸出伸入到凹触头(2)的凹陷中，并紧密接触。本实用新型在不增大真空灭弧室直径的情况下增大触头的接触面积，降低接触电阻，从而增大开断能力。有效的解决由两个相同的圆柱形平板触头对接所存在的体积大，接触面积小，同轴度差的问题。 | ||
| 申请公布号 | CN200993927Y | 申请公布日期 | 2007.12.19 |
| 申请号 | CN200620200912.4 | 申请日期 | 2006.11.16 |
| 申请人 | 中国振华（集团）科技股份有限公司宇光分公司 | 发明人 | 顾斌 |
| 分类号 | H01H33/664(2006.01);H01H1/06(2006.01) | 主分类号 | H01H33/664(2006.01) |
| 代理机构 | 贵阳中新专利商标事务所 | 代理人 | 李大刚 |
| 主权项 | 1.一种真空灭弧室用的新型触头，其特征在于：它包括凸触头(1)和凹触头(2)，凸触头(1)和凹触头(2)均为圆柱体，凸触头(1)的一个端面为凸出形，凹触头(2)的一个端面为凹陷形，凸触头(1)和凹触头(2)成对使用，两个触头接触时，凸触头(1)的凸出伸入到凹触头(2)的凹陷中，并紧密接触。 | ||
| 地址 | 550018贵州省贵阳市289信箱总办 | ||