用于磊晶薄膜形成的方法与装置

摘要

在第一态样中，本发明提供第一系统以用于半导体元件制造。此第一系统包含：(1)一磊晶腔室，其适用以在一基材之表面上形成一材料层次；以及(2)一电浆产生器，其耦接于该磊晶腔室，且适用以导引电浆至该磊晶腔室。本发明提供许多其他态样。