发明名称 图像显影装置
摘要 本发明之图像曝光装置,具备有:空间光调变元件,系以呈2维状排列的各个画素部对照射光作调变;光源使光照射前述空间光调变元件;第1光学系统,使通过前述空问光调变元件后的光作聚光,使前述画素部的像各别成像;微透镜阵列,系利用其复数个呈2维状排列的各个微透镜,使通过前述第1光学系统后之来自前述画素部的光束在感光材料上成像;位置偏离检测手段,用以检测前述感光材料与来自前述微透镜阵列之光的相对位置偏离;及微透镜阵列移动手段,其根据前述位置偏离检测手段所检测之位置偏离,使前述微透镜阵列移动。
申请公布号 TW200745768 申请公布日期 2007.12.16
申请号 TW095135964 申请日期 2006.09.28
申请人 富士照相软片股份有限公司 发明人 石井秀一;尾崎多可雄;高田伦久
分类号 G03F7/20(2006.01);B41J2/46(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 代理人 何金涂;何秋远
主权项
地址 日本