发明名称 | 涂布、显影装置、涂布、显影方法及记忆媒体 | ||
摘要 | 本发明旨在提供一涂布、显影装置,其于组装有基板检查单元时,占有面积狭小,并可避免不利之布局。本发明之涂布、显影装置之构成系将包含有液体处理单元及加热单元之涂布膜形成用区块,以及包含有加热单元及将显影液涂布在基板上之处理单元之显影处理用区块加以叠层而形成处理区块,于载运区块与处理区块之间设有;棚架状之传递平台群,用以在与各区块之输送机构之间进行基板之传递;及上下输送机构,以可自由昇降之方式构成,传递基板至各传递平台;于该涂布膜形成用区块、显影处理用区块之其中至少一者内设有一基板检查单元,对由各区块之基板输送机构所输送之基板进行检查。 | ||
申请公布号 | TW200745765 | 申请公布日期 | 2007.12.16 |
申请号 | TW096110728 | 申请日期 | 2007.03.28 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 松冈伸明;林田安;林伸一 |
分类号 | G03F7/16(2006.01);G03F7/30(2006.01);H01L21/027(2006.01);H01L21/677(2006.01) | 主分类号 | G03F7/16(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 周良谋;周良吉 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |