发明名称 量测方法和装置、曝光装置、曝光方法、以及调整方法
摘要 一种用于量测一光学系统中的一孔径光阑之位置的量测方法,该量测方法包含以下步骤:在与该光学系统中的一光瞳位置光学地共轭的位置上,量测通过该孔径光阑之光的一光强度分布,以及基于由该量测步骤所量测之该光强度分布的一绕射边缘,决定该光学系统中的该孔径光阑之位置。
申请公布号 TW200745529 申请公布日期 2007.12.16
申请号 TW096111365 申请日期 2007.03.30
申请人 佳能股份有限公司 发明人 盐出吉宏
分类号 G01M11/02(2006.01);G03B27/50(2006.01);G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G01M11/02(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本