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经营范围
发明名称
量测方法和装置、曝光装置、曝光方法、以及调整方法
摘要
一种用于量测一光学系统中的一孔径光阑之位置的量测方法,该量测方法包含以下步骤:在与该光学系统中的一光瞳位置光学地共轭的位置上,量测通过该孔径光阑之光的一光强度分布,以及基于由该量测步骤所量测之该光强度分布的一绕射边缘,决定该光学系统中的该孔径光阑之位置。
申请公布号
TW200745529
申请公布日期
2007.12.16
申请号
TW096111365
申请日期
2007.03.30
申请人
佳能股份有限公司
发明人
盐出吉宏
分类号
G01M11/02(2006.01);G03B27/50(2006.01);G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01)
主分类号
G01M11/02(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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