发明名称 成像光学系统、曝光装置及元件制造方法
摘要 本发明是一种液浸式及反射折射型的投影光学系统,可抑制边界光学元件的固有双折射的影响,确保较大的像侧数值孔径及良好的成像性能。在将第1面(R)的像形成于第2面(W)的本发明的投影光学系统中,成像光学系统与第2面之间的光路中充满着液体(Lm)。本发明的投影光学系统包括凹面反射镜(CM)、往返光学元件(L21、L22)、多个折射光学元件(P1、L11~L111、L31~L314)、以及边界光学元件(L315、Lb);其中,上述往返光学元件(L21、L22)配置于由凹面反射镜形成的往返光路中,且由立方晶系结晶材料形成;上述多个折射光学元件(P1、L11~L111、L31~L314)由非晶质材料形成;上述边界光学元件(L315、Lb)由立方晶系结晶材料形成,并且第2面侧的面与液体相接,而第1面侧的面与气体相接。
申请公布号 TW200745600 申请公布日期 2007.12.16
申请号 TW096116852 申请日期 2007.05.11
申请人 尼康股份有限公司 发明人 大村泰弘
分类号 G02B17/08(2006.01);G03B27/52(2006.01);G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G02B17/08(2006.01)
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 日本