| 摘要 |
本发明提供一种曝光装置及曝光方法，其可有效率地进行供给基板至2个基板平台，而缩短已曝光转印之基板制造之间歇时间。曝光装置PE包含光罩平台10、可对光罩平台10相对移动之2个基板平台11、12、预对准单元14及对于预对准单元14对向配置之2个基板装载机15、16。在使一方之基板平台11从待机位置WP1移动至曝光位置EP，以将光罩图案P曝光转印于基板W之间，使另一方之基板平台12从曝光位置EP移动至待机位置WP2之后，将已曝光转印之基板W排出，将已预对准之基板W藉由基板装载机16搬运至另一方之基板平台12，且藉由基板装载机15将基板W搬运至预对准单元14。 |
