用于光微影技术之涂布组成物

摘要

于第一态样，本发明提供包括下列步骤之方法：(a)施用可固化组成物于基材上；(b)施用硬质遮罩组成物于该可固化组成物之上；(c)施用光阻组成物层于该硬质遮罩组成物之上，其中，一种或多种该等组成物系以无灰化制程(ash-free process)移除。于第二态样，本发明提供包括下列步骤之方法：(a)施用有机组成物于基材上；(b)施用光阻组成物层于该有机组成物之上，其中，该有机组成物包括在热处理及/或辐射处理后产生硷溶性基团之材料。本发明亦提供相关之组成物。