| 摘要 |
本发明系提供高能量线曝光下，高感度且具有高解像性，可抑制显像时之膨润，因此线边缘粗糙度较小，显像后之残渣较少的正型光阻材料。本发明系一种高分子化合物，其特征系具有下述一般式(1a)及(hb)表示之重复单位，(式中，R1系表示相同或不同之氢原子或甲基，R2系氢原子、醯基或酸不安定基，R3系氢原子、甲基或-CO2R8，R4系氢原子、甲基、或-CH2CO2R8，R8系表示氢原子或烷基，X系-CH2-、-O-或-S-，但是R5~R7之全部为氢原子时，X不为-CH2-，R5~R7系氢原子、甲基、三氟甲基、或-CO2R9，R9系氢原子、烷基或氟化之烷基、或酸不安定基，n系1~3的整数，a1、b1系0<a1<1.0、0<b1≦0.8的范围)。 |
