发明名称 氟醇化合物之制造方法,含氟单体,高分子化合物,光阻材料及图案形成方法
摘要 本发明系一种以下述一般式(4)表示之氟醇化合物之制造方法,其特征系使下述一般式(2)及(3)表示之还原剂或有机金属试剂与下述一般式(1)表示之氟化合物反应,(式中,R1表示氢原子或碳数1~20之一价烃基,一价烃基时,构成之-CH2-可被-O-或-C(=O)-取代。R2表示氢原子或碳数1~6之一价烃基。R@#3、R@#4系表示氢原子或碳数1~8之一价烃基。M1系可被取代之Li、Na、K、Mg、Zn、Al、B、Si)。本发明之含氟单体可作为功能性材料、医药农药等之原料,其中也可作为制造辐射敏感光阻组成物之基底树脂的单体使用。依据本发明之方法可轻易且廉价制造单体。
申请公布号 TW200745023 申请公布日期 2007.12.16
申请号 TW096103576 申请日期 2007.01.31
申请人 信越化学工业股份有限公司 发明人 长谷川幸士;金生刚;西恒宽;大桥正树;渡边武
分类号 C07C69/63(2006.01);C07C31/38(2006.01);C08F120/22(2006.01);G03F7/027(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 C07C69/63(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本
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