处理炉或其类似者

摘要

将一CVI/CVD炉之定位有一用于加热该炉之加热系统的一部分与该炉之暴露至一内部存在之反应性气体的一剩余部分隔离。举例而言，该炉之外壳可具备一隔壁或其类似者以提供一实体分离。另外，将诸如氩气或氮气之惰性气体供应至含有该加热系统之加热区，使得该炉之部分与存在反应性气体之部分相比处于正压差。结果，阻止该反应性气体接触该加热系统，否则该反应性气体可导致沈积物形成于该加热系统上且导致其他影响。更一般而言，可更好地控制对该炉中之反应性气体流之控制。