发明名称 |
清洁一表面之方法、一器件制造方法、一清洁总成、清洁设备以及微影设备 |
摘要 |
本发明之一实施例提供一种用以清洁一表面之方法。该方法包括使用一污染物释放器件自该表面至少部分地释放污染物;及使用一污染物移除器件捕获已至少部分地释放之污染物,该污染物移除器件产生至少一光阱以陷获已至少部分地释放之污染物。本发明之实施例亦提供一种器件制造方法、一用以清洁一光学元件之一表面之方法、一清洁总成及清洁设备及一微影设备。 |
申请公布号 |
TW200745782 |
申请公布日期 |
2007.12.16 |
申请号 |
TW096113363 |
申请日期 |
2007.04.16 |
申请人 |
ASML公司 |
发明人 |
曼迪普 新 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01);G03F7/16(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
|
代理人 |
陈长文 |
主权项 |
|
地址 |
荷兰 |