发明名称 负型敏辐射线性树脂组成物
摘要 本发明提供光阻对于电镀液的膨润少,可抑制电镀液对于图案与基板的界面之掺出,可精度佳地形成凸块或配线等的厚膜之电镀造形物的制造方法;显示适合于该制造方法的感度,解像度、耐热性等优异的负型敏辐射线性树脂组成物;及使用该组成物的转印薄膜。上述负型敏辐射线性树脂组成物包含:(A)含有下述式(1)所表示的结构单元及下述式(2)所表示的结构单元之聚合物,(B)具有至少1个乙烯性不饱和双键的化合物,及(C)敏辐射线性自由基聚合引发剂,[式中,R1表示氢原子或甲基,R2表示碳数6~12的直链状、环状或芳香族的烃基,或表示此等基中至少1个氢原子被烃基所取代的取代烃基,R3表示氢原子或甲基,R4表示-(CnH2n)-基,m系1~10的整数,n系2~4的整数]。
申请公布号 TW200745754 申请公布日期 2007.12.16
申请号 TW096111091 申请日期 2007.03.29
申请人 JSR股份有限公司 发明人 鬼丸奈美;井洋子
分类号 G03F7/038(2006.01);G03F7/028(2006.01);G03F7/26(2006.01) 主分类号 G03F7/038(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本