电浆蚀刻方法及电脑可读取的记忆媒体

摘要

提供一种电浆蚀刻方法，蚀刻反射防止膜时，可以广范围地控制电浆，藉此，控制蚀刻特性之分布，于其后之蚀刻对象膜之蚀刻时可以控制CD分布。对形成于被处理体W之反射防止膜进行电浆蚀刻之电浆蚀刻方法具有：将于基板上依序形成着蚀刻对象膜、反射防止膜、以及图案化之光阻膜之被处理体配置于上下相对地配设着第1电极34及第2电极16之处理容器10内之制程；用以将处理气体导入处理容器10内之制程；用以对第1电极34及第2电极16之其中之一施加高频电力来产生电浆之制程；以及用以对其中之一之电极施加直流电压之制程。