发明名称 |
光阻剥离废液再制方法及再制装置(二) RECYCLING METHOD FOR RESIST STRIPPER SCRAPPED AND RECYCLING DEVICE FOR THE SAME |
摘要 |
本发明之目的系提供一种光阻剥离废液再制方法及再制装置,其特别适用于经济性良好地再制于使用包含各种特别之胺化合物之剥离液之剥离步骤及使用各种光阻及剥离液之情形所产生之光阻剥离废液。本发明系关于光阻剥离废液再制方法及适用该方法之再制装置,该再制方法系再制包含水、光阻、胺化合物、有机溶剂之光阻剥离废液者,其特征在于包含:(a)添加与光阻剥离废液之胺化合物反应,使胺化合物自剥离废液中析出作为胺-酸化合物之酸之阶段;(b)自剥离废液过滤出于前述(a)阶段所析出之胺-酸化合物之阶段;及(c)分馏前述(b)阶段之经去除胺之剥离废液,仅取得有机溶剂之阶段。 |
申请公布号 |
TW200745785 |
申请公布日期 |
2007.12.16 |
申请号 |
TW096107177 |
申请日期 |
2007.03.02 |
申请人 |
东进世美肯有限公司 |
发明人 |
李骐范;金柄郁;朴美仙;洪振燮;任润吉;尹锡壹 |
分类号 |
G03F7/42(2006.01);G03F7/26(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/42(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
恽轶群;陈文郎 |
主权项 |
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地址 |
韩国 |