溅射靶及氧化物烧结体之制造方法

摘要

本发明系提供溅射靶及氧化物烧结体之制造方法，其中，该溅射靶系用以形成具有低电阻而高透光率之透明导电膜，该透明导电膜为非晶质膜且藉由弱酸蚀刻可以比较容易形成图案，且比较容易结晶化。本发明系一种形成非晶质状态之透明导电膜的溅射靶，其具备含有氧化铟与因应需要之锡以及钡之氧化物烧结体。