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发明名称
部份真空环境下之压印
摘要
本发明系有关一种使用在固持着奈米压印模之模板中的槽道或孔洞来造成一局部真空,而在该奈米压印微影模板附近造成并维持一所需环境的方法和系统。
申请公布号
TW200744830
申请公布日期
2007.12.16
申请号
TW096111836
申请日期
2007.04.03
申请人
分子压模公司
发明人
齐雷拉 安雪曼;莱德;麦马金;崔炳镇
分类号
B29D11/00(2006.01);G02B6/138(2006.01);G02B6/13(2006.01);B41F16/00(2006.01)
主分类号
B29D11/00(2006.01)
代理机构
代理人
恽轶群;陈文郎
主权项
地址
美国
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