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经营范围
发明名称
在压印微影术中的镶嵌式图案
摘要
本发明系有关一种用于层面0(被以压印或光微影术或电子束等图案化者)和层面1(被以压印图案化者)的图案化场之形状的选择,俾使该等形状当嵌合在一起时能消除由沟隙所造成的开放区域。
申请公布号
TW200744829
申请公布日期
2007.12.16
申请号
TW096111823
申请日期
2007.04.03
申请人
分子压模公司
发明人
史瑞尼瓦森;舒玛克;麦马金
分类号
B29D11/00(2006.01);G03F7/00(2006.01)
主分类号
B29D11/00(2006.01)
代理机构
代理人
恽轶群;陈文郎
主权项
地址
美国
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