发明名称 在压印微影术中的镶嵌式图案
摘要 本发明系有关一种用于层面0(被以压印或光微影术或电子束等图案化者)和层面1(被以压印图案化者)的图案化场之形状的选择,俾使该等形状当嵌合在一起时能消除由沟隙所造成的开放区域。
申请公布号 TW200744829 申请公布日期 2007.12.16
申请号 TW096111823 申请日期 2007.04.03
申请人 分子压模公司 发明人 史瑞尼瓦森;舒玛克;麦马金
分类号 B29D11/00(2006.01);G03F7/00(2006.01) 主分类号 B29D11/00(2006.01)
代理机构 代理人 恽轶群;陈文郎
主权项
地址 美国