发明名称 触媒体化学气相成长装置
摘要 进行从处理室内部构成构件及处理室内壁等之放出的H2O等的放出气体或起因于附着堆积物的粒子的对策,提供可进行所希望膜质之成膜的触媒体化学气相成长装置。其特征为具备:配置于处理室1内的基板4、和相对于基板4的喷淋板7、和活性化从喷淋板7的原料气体之由金属钨线等所构成的触媒体5;于使触媒体5存在于基板4与喷淋板7之间的构成,加上将处理室1内的基板4与喷淋板7相对的空间以筒状周壁23围绕之构成,而且将筒状周壁23的内侧,也就是成膜区域26内的压力为变得比其他的区域高的方式设置真空排气手段之触媒体化学气相成长装置。
申请公布号 TW200745372 申请公布日期 2007.12.16
申请号 TW096113097 申请日期 2007.04.13
申请人 爱发科股份有限公司 发明人 高木牧子;伊藤博巳;斋藤一也;藤本秀树
分类号 C23C16/452(2006.01);H01L21/205(2006.01) 主分类号 C23C16/452(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本