用于制造含有各种蚀刻特征结构之压印模板的自我对准方法

摘要

本发明系揭露一种能够使已经在多重独立蚀刻步骤中生成之结构作共面化之方法。藉由只将特定图案选择性地曝露于特定蚀刻条件来独立地进行各种蚀刻。这些结构已经生成之后，各种结构可能将相对于模板表面存在于不同平面/海拔高度。可使“较高”结构选择性地曝露于一异向性蚀刻故降低结构的整体海拔高度同时保存结构性拓朴，藉以独立地调整各种结构的海拔高度。