发明名称 | 非挥发性记忆体之布局结构 | ||
摘要 | 一种非挥发性记忆体之布局结构,其包括:基底、行方向的多条埋入式位元线、作为记忆胞的多个电晶体、列方向的多条字元线、多个位元线接触窗以及至少二条虚拟字元线。基底中具有一隔离结构,且隔离结构定义出主动区。埋入式位元线位于主动区之基底中。电晶体位于各埋入式位元线之间的基底上,且排列成二维阵列。每一条字元线串联同一列的各电晶体。位元线接触窗位于埋入式位元线上。另外,二条虚拟字元线分别位于主动区两侧的隔离结构上,且与字元线平行排列。 | ||
申请公布号 | TW200746158 | 申请公布日期 | 2007.12.16 |
申请号 | TW095119813 | 申请日期 | 2006.06.05 |
申请人 | 旺宏电子股份有限公司 | 发明人 | 金锺五;刘承杰 |
分类号 | G11C5/02(2006.01);G11C11/34(2006.01) | 主分类号 | G11C5/02(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行路16号 |