发明名称 |
用于补偿蒸发时间差异之将一基材上多数个场图案化的方法 |
摘要 |
一种图案化一含有多数个场之基材的方法,包括:配置一第一体积的流体于该基材之多数个场的第一次组上,而使该第一体积的流体承受一第一蒸发时间;配置一第二体积的流体于该基材之多数个场中不同于该第一次组的第二次组上,而使第二体积的流体承受一不同于该第一蒸发时间的第二蒸发时间;及图案化该多数个场的第一和第二次组,而使该多数个场的第一次组在该多数个场的第二次组之前先被图案化,且该多数个场之第二次组相关联的体积系大于该多数个场之第一次组相关联的体积,以补偿该第二蒸发时间大于第一蒸发时间。 |
申请公布号 |
TW200744828 |
申请公布日期 |
2007.12.16 |
申请号 |
TW096111610 |
申请日期 |
2007.04.02 |
申请人 |
分子压模公司 |
发明人 |
史瑞尼瓦森;舒玛克 |
分类号 |
B29D11/00(2006.01);G03F7/00(2006.01);B82B3/00(2006.01) |
主分类号 |
B29D11/00(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
恽轶群;陈文郎 |
主权项 |
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地址 |
美国 |