发明名称 当真空清拭时保留被填注之特征构造
摘要 一种用以在与一基材接触之前先固化一模板上的压印物之方法/制程。一固化制程会被用来将该压印物黏接于一晶圆或基材。单体会被沈积在一模板上,嗣再使用UV曝光来部份地固化。该曝光会被控制成使该压印物通过胶化点而固化,但仍在表面保留一未固化单体的薄液体层,其将会与该晶圆黏接。又,此部份地固化层可使该模板与基材之间的对准调整能在该二者接触之后来被进行,而不会将任何单体拉出特征细构外。
申请公布号 TW200745744 申请公布日期 2007.12.16
申请号 TW096111816 申请日期 2007.04.03
申请人 分子压模公司 发明人 夏克里顿;莱德;麦马金;徐;史瑞尼瓦森
分类号 G03F7/00(2006.01);B29C35/02(2006.01) 主分类号 G03F7/00(2006.01)
代理机构 代理人 恽轶群;陈文郎
主权项
地址 美国