曝光设备、其压力控制方法、及装置制造方法

摘要

一种曝光设备系经由光学系统使基板曝光于真空氛围。该设备包括使至少包括部分光学系统的第一空间与邻接第一空间之第二空间分开的隔板，且包括使光通过隔板之开口。该设备另包括调整第一空间中的压力之第一压力调整器、调整第二空间中的压力之第二压力调整器、及输出第一及第二压力调整器的受控变数之控制器。该控制器输出第一及第二压力调整器的受控变数，以在真空至大气压力的范围内改变第一空间中的压力及第二空间中的压力，同时保持第一空间中的压力高于第二空间中的压力之压力关系。