发明名称 | 真空密封散热用媒介之机构及其制程 | ||
摘要 | 本发明系有关于一种「真空密封散热用媒介之机构及其制程」,系用于加工包含有散热用媒介之散热系统,包括有第一通道、第二通道及密封通道,第一通道、第二通道一端系分别接设于抽气单元或散热用媒介供应单元,另一端延伸贯通至密封通道,该密封通道置设有密封构件,该密封构件设有输送通道,以供第一通道或第二通道对制品抽真空或导入散热用媒介。 | ||
申请公布号 | TW200746986 | 申请公布日期 | 2007.12.16 |
申请号 | TW096120452 | 申请日期 | 2007.06.07 |
申请人 | 奇鋐科技股份有限公司 | 发明人 | 龚新文 |
分类号 | H05K7/20(2006.01);F28D15/04(2006.01) | 主分类号 | H05K7/20(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 孙大龙 | |
主权项 | |||
地址 | 台北县新庄市五权二路24号7楼之3 |