发明名称 真空密封散热用媒介之机构及其制程
摘要 本发明系有关于一种「真空密封散热用媒介之机构及其制程」,系用于加工包含有散热用媒介之散热系统,包括有第一通道、第二通道及密封通道,第一通道、第二通道一端系分别接设于抽气单元或散热用媒介供应单元,另一端延伸贯通至密封通道,该密封通道置设有密封构件,该密封构件设有输送通道,以供第一通道或第二通道对制品抽真空或导入散热用媒介。
申请公布号 TW200746986 申请公布日期 2007.12.16
申请号 TW096120452 申请日期 2007.06.07
申请人 奇鋐科技股份有限公司 发明人 龚新文
分类号 H05K7/20(2006.01);F28D15/04(2006.01) 主分类号 H05K7/20(2006.01)
代理机构 代理人 孙大龙
主权项
地址 台北县新庄市五权二路24号7楼之3
您可能感兴趣的专利