COMPOSICION A BASE DE POLIAMIDA DE ESTABILIDAD A LA LUZ ELEVADA.

摘要

LA PRESENTE INVENCION SE REFIERE A UNA COMPOSICION A BASE DE POLIAMIDA UTILIZADA PARA LA FABRICACION DE PIEZAS MOLDEADAS QUE PRESENTAN UNA RESISTENCIA ELEVADA A LA AGRESION POR LA LUZ Y/O LA INTEMPERIE. LA INVENCION SE REFIERE MAS EN PARTICULAR A COMPOSICIONES QUE COMPRENDEN UNA MATRIZ TERMOPLASTICA A BASE DE POLIAMIDA SEMICRISTALINA, UN PIGMENTO NEGRO Y EVENTUALMENTE CARGAS DE REFUERZO. ESTA COMPOSICION SE CARACTERIZA POR LA PRESENCIA DE ADITIVOS TERMICAMENTE ESTABILIZANTES CON UN PIGMENTO NEGRO CONSTITUIDO POR AL MENOS UN PIGMENTO NEGRO DE ORIGEN MINERAL, Y CON AL MENOS ADITIVOS QUE REDUCEN EL EFECTO DE LAS RADIACIONES EN LA DEGRADACION DE LA MATRIZ POLIMERICA. LAS COMPOSICIONES DE LA INVENCION PRESENTAN UNA ESTABILIDAD MEJORADA DE SUS PROPIEDADES BAJO EL EFECTO DE LA LUZ Y/O DE LA INTEMPERIE POR EJEMPLO CERCA A LA DEL POLIESTER.