| 发明名称 |
Kaltgepresste Sputtertargets |
| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Sputtertarget mit einem Sputtermaterial aus einer Legierung oder Materialmischung aus mindestens zwei Komponenten, wobei die beiden Komponenten im thermodynamischen Ungleichgewicht vorliegen und besteht darin, dass die Komponenten durch ein isostatisches oder unaxiales Kalt-Press-Verfahren kompaktiert sind.
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| 申请公布号 |
DE102006026005(A1) |
申请公布日期 |
2007.12.06 |
| 申请号 |
DE200610026005 |
申请日期 |
2006.06.01 |
| 申请人 |
W.C. HERAEUS GMBH |
发明人 |
WEIGERT, MARTIN;SCHULTHEIS, MARKUS |
| 分类号 |
C23C14/34;B22F3/02;B22F7/02;C22C1/04;C22C9/00;C22C12/00;C22C13/00;C22C27/00 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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