| 发明名称 | 微细加工处理剂以及使用其的微细加工处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明所涉及的微细加工处理剂，是用于含有钨膜以及硅氧化膜的层叠膜的微细加工的微细加工处理剂，其特征在于，含有氟化氢和硝酸和至少氟化铵以及氯化铵中的任意一种。由此，可以提供能对钨膜以及硅氧化膜的层叠膜，通过控制蚀刻速度进行微细加工处理的微细加工处理剂以及使用其的微细加工处理方法。 | ||
| 申请公布号 | CN101084573A | 申请公布日期 | 2007.12.05 |
| 申请号 | CN200580043740.2 | 申请日期 | 2005.12.19 |
| 申请人 | 斯泰拉化工公司 | 发明人 | 菊山裕久;脇雅秀;伊藤周德;久次米孝信;二井启一;长谷部类;鹤丸一志;中嶌秀纪 |
| 分类号 | H01L21/306(2006.01);C23F1/26(2006.01) | 主分类号 | H01L21/306(2006.01) |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 苗堃;刘继富 |
| 主权项 | 1.一种微细加工处理剂，其是用于含有钨膜以及硅氧化膜的层叠膜的微细加工的微细加工处理剂，其特征在于，含有氟化氢和硝酸和至少氟化铵以及氯化铵中任意一种。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||