光学扫描装置

摘要

一种用于对具有不同厚度覆盖层的光学记录载体(2)扫描的光学扫描装置(1)。该扫描装置具有用于扫描第一光学记录载体的第一模式，用于扫描第二光学记录载体的第二模式以及用于扫描第三光学记录载体的第三模式。该装置包括物镜系统和可转换光学元件，其具有第一离散状态以及不同的第二离散状态。该元件包括：包括第一流体和不同的第二流体(19)的流体系统；波阵面修正器(17)；以及用于作用于流体系统的流体系统开关，以在该元件的第一和第二离散状态之间转换。当该元件处于第一离散状态时，波阵面修正器(17)基本上被第一流体覆盖，以及当波阵面处于第二离散状态时，波阵面修正器(17)基本上被第二流体(19)覆盖。波阵面修正器包括非周期相位结构，该相位结构包括多个由台阶间隔开的梯状环形区域，该区域形成非周期径向图案，并且特征在于波阵面修正器还包括非球形表面。该扫描装置被设置成使用在所述第二状态中的该元件来运行，从而在所述第二模式时产生球面像差，在第二状态中该元件的非球形表面补偿了一多半由物镜系统和第二记录载体相结合而引起的球面像差。

主权项

1.一种用于对具有不同厚度覆盖层的光学记录载体(2)扫描的光学扫描装置(1)，该扫描装置具有用于扫描第一光学记录载体的第一模式，用于扫描第二光学记录载体的第二模式以及用于扫描第三光学记录载体的第三模式，该装置包括物镜系统(10)和可转换光学元件(8)，其具有第一离散状态以及不同的、第二离散状态，该元件包括：a)包括第一流体(18)和不同的、第二流体(19)的流体系统；b)波阵面修正器(17)；以及c)用于作用于流体系统的流体系统开关，以在该元件的第一和第二离散状态之间转换，其中，当该元件处于第一离散状态时，波阵面修正器(17)基本上被第一流体(18)覆盖，以及当波阵面处于第二离散状态时，波阵面修正器(17)基本上被第二流体(19)覆盖，波阵面修正器包括相位结构，该相位结构包括多个梯状环形区域，其特征在于，波阵面修正器还包括非球形表面，该扫描装置被设置成使用在所述第二状态的所述元件(8)来运行，从而在所述第二模式中产生球面像差，在第二状态中的该元件(8)的非球形表面补偿了一多半由物镜系统(10)和第二记录载体相结合而引起的球面像差。