| 发明名称 | 底盖 | ||
| 摘要 | 一种底盖，适用于半导体工艺用的炉管，炉管具有多个注入器及底座，底盖配置于炉管的底座上，底盖包括圆板及外环体。外环体配置于圆板的外缘且向圆板背向底座的一面的上方延伸，外环体具有一个缺口，缺口足以容纳注入器。 | ||
| 申请公布号 | CN200986397Y | 申请公布日期 | 2007.12.05 |
| 申请号 | CN200620136992.1 | 申请日期 | 2006.11.01 |
| 申请人 | 力晶半导体股份有限公司 | 发明人 | 陈俊霖;蔡庆文;贾世玮 |
| 分类号 | F27D5/00(2006.01);F27B17/00(2006.01) | 主分类号 | F27D5/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波 |
| 主权项 | 1、一种底盖，适用于半导体工艺用的炉管，该炉管具有多个注入器及底座，该底盖配置于该炉管的该底座上，其特征在于，该底盖包括：圆板；以及外环体，配置于该圆板的外缘且向该圆板背向该底座的一面的上方延伸，该外环体具有缺口，该缺口足以容纳该些注入器。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹科学工业园区 | ||