发明名称 |
计量工具、含光刻设备、计量工具的系统、确定衬底参数的方法 |
摘要 |
一种计量工具被布置为测量已经在光刻设备中提供有图案的衬底的参数。该计量工具包括底座、被构造和布置为支持衬底的衬底工作台、被构造和布置为测量衬底的参数的至少一个传感器、用于使衬底工作台和传感器的其中之一相对于衬底工作台和传感器的另外一个在至少第一方向上移位的位移系统、第一平衡物和第一承载件,第一承载件可移动地支撑第一平衡物以便基本上可自由地在第一方向的相反方向上平移,从而抵消衬底工作台和传感器的其中之一在第一方向上的位移。 |
申请公布号 |
CN101082783A |
申请公布日期 |
2007.12.05 |
申请号 |
CN200710109819.1 |
申请日期 |
2007.05.30 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
R·T·普卢格;A·J·登博夫;K·D·范德马斯特 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
曾祥夌;王小衡 |
主权项 |
1.一种被布置为测量衬底的参数的计量工具,已经在光刻设备中向所述衬底提供了图案,所述计量工具包括:底座;衬底工作台,其被构造和布置为支持所述衬底;至少一个传感器,其被构造和布置为测量所述衬底的参数;位移系统,用于使所述衬底工作台和传感器的其中之一相对于另外一个在至少第一方向上移位;第一平衡物;第一承载件,其可移动地支撑所述第一平衡物使得基本上可自由地在所述第一方向的相反方向上平移,以便抵消所述衬底工作台和传感器的所述其中之一在所述第一方向上的位移。 |
地址 |
荷兰费尔德霍芬 |