Forming Method for Field Oxide of Semiconductor Device,申请号KR20010026086-传众专利搜索

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发明名称	Forming Method for Field Oxide of Semiconductor Device
摘要
申请公布号	KR100781870(B1)	申请公布日期	2007.12.05
申请号	KR20010026086	申请日期	2001.05.14
申请人		发明人
分类号	H01L21/76	主分类号	H01L21/76
代理机构		代理人
主权项
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