| 发明名称 | 毛发处理剂和烫发方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种即使在中性到弱酸性的pH范围内也能够烫发的毛发处理剂，其对皮肤几乎不造成刺激，并且该毛发处理剂中令人不愉快的气味被掩蔽。毛发处理剂含有至少一种式(2)表示的化合物。毛发处理剂含有式(2)表示的化合物和至少一种选自巯基乙酸、硫羟乳酸、半胱氨酸、乙酰基半胱氨酸、半胱胺、酰基半胱胺、它们的盐和它们的酯衍生物的化合物(ii)。毛发处理剂含有式(2)表示的化合物、表面活性剂和水，并且被乳化。毛发处理剂含有式(2)的化合物和特定的香料。其中X是选自由－O－、－S－、－NH－和－NR<SUP>1</SUP>－组成的组的结构；R<SUP>1</SUP>是1－6个碳原子的烷基；Y是氧原子或硫原子；在式(1)中，Z是具有至少一个巯基的二价有机残基；在式(2)中，R是任选地具有巯基的二价有机残基，R<SUP>2</SUP>是氢原子或1－6个碳原子的烷基。 | ||
| 申请公布号 | CN101083975A | 申请公布日期 | 2007.12.05 |
| 申请号 | CN200580043646.7 | 申请日期 | 2005.12.20 |
| 申请人 | 昭和电工株式会社 | 发明人 | 涩谷彰;青木英雅;斋藤信;蒲池元昭;土屋笃史;冈村彰郎 |
| 分类号 | A61K8/49(2006.01);A61Q5/04(2006.01) | 主分类号 | A61K8/49(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 林柏楠;刘金辉 |
| 主权项 | 1.一种毛发处理剂，其包含至少一种下面式(1)表示的化合物，<img file="A2005800436460002C1.GIF" wi="410" he="403" />其中X是选自由-O-、-S-、-NH-和-NR<sup>1</sup>-组成的组的结构；R<sup>1</sup>是1-6个碳原子的烷基；Y是氧原子或硫原子；Z是具有至少一个巯基的二价有机残基。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||