发明名称 对存储介质上的光学效应的分析
摘要 本发明公开了一种用于分析光学记录介质上的光学效应的质量的方法,以及该方法与优化写入策略和对于光学记录介质分析写入质量相结合的应用。该方法包括以下步骤:确定所测得的光学信号(61)和标称光学信号(60)的波形,以及从所测得的波形与标称波形中的差异(62-65)计算幅度差参数。因此,所述光学效应的质量量度可以从该幅度差参数确定。该方法的应用包括(但不局限于):用于从光学存储介质上读取光学效应的设备,其具有用于确定幅度差参数的装置;光学记录仪器,其具有用于调节写入策略中的功率电平和/或电平持续时间的装置;以及用于控制光学存储仪器的IC。
申请公布号 CN101084540A 申请公布日期 2007.12.05
申请号 CN200580043822.7 申请日期 2005.12.14
申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司 发明人 C·A·弗舒伦
分类号 G11B7/004(2006.01);G11B7/125(2006.01) 主分类号 G11B7/004(2006.01)
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 李亚非;谭祐祥
主权项 1.用于分析光学记录介质(11)上的光学效应(23)的质量的方法,该方法包括以下步骤:a)确定来自该光学记录介质的所测得的光学信号的波形(61);b)确定标称信号的波形(60),该标称信号通过光学通道模型计算得到;c)计算幅度差参数,该幅度差参数基于所测得的波形与该标称波形中的幅度差,其中从该幅度差参数确定所述光学效应的质量量度。
地址 荷兰艾恩德霍芬
您可能感兴趣的专利