METHOD OF FORMING FIELD OXIDE OF SEMICONDUCTOR DEVICE,申请号KR20010039026-传众专利搜索

发明名称	METHOD OF FORMING FIELD OXIDE OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号	KR100781871(B1)	申请公布日期	2007.12.05
申请号	KR20010039026	申请日期	2001.06.30
申请人		发明人
分类号	H01L21/76	主分类号	H01L21/76
代理机构		代理人
主权项
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