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发明名称 Method for Forming Mask having SiN
摘要
申请公布号 KR100782479(B1) 申请公布日期 2007.12.05
申请号 KR20010080174 申请日期 2001.12.17
申请人 发明人
分类号 H01L21/027;H01L21/033;H01L21/302;H01L21/311;H01L21/461 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
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