显示元件形成方法及其结构

摘要

本发明提供了一种显示元件形成方法及其结构，该方法包含形成第一金属于基板上；形成绝缘层覆盖在第一金属以及基板上；形成第二金属在绝缘层上；以及形成保护层覆盖在绝缘层以及第二金属上；接着，形成图案化光阻层在保护层上方，然后以图案化光阻层做为遮罩，利用具有不同蚀刻比之蚀刻气体，执行两次蚀刻步骤，藉此形成接触洞结构，接触洞之至少一侧壁具有上下两个不同的倾斜角度，使得在后续所形成的电极层与曝露出第一接触洞之第一金属，及曝露出第二接触洞之第二金属，具有良好的阶梯覆盖性。