| 主权项 |
1.一种有机电激发光显示元件,包括: 一第一基板,具有一第一电极层; 一有机官能层,配置于该第一电极层上; 一第二电极层,配置于该有机官能层上; 一接合薄膜,配置于该第二电极层上; 一微透镜阵列层,配置于该接合薄膜上;以及 一第二基板,配置于该微透镜阵列层上。 2.如申请专利范围第1项所述之有机电激发光显示 元件,其中该微透镜阵列层包括: 多个微透镜,阵列排列于该接合薄膜上;以及 一介面层,覆盖于该些微透镜上。 3.如申请专利范围第2项所述之有机电激发光显示 元件,其中该些微透镜包括: 多个第一微透镜,适于让第一色光通过; 多个第二微透镜,适于让第二色光通过;以及 多个第三微透镜,适于让第三色光通过。 4.如申请专利范围第3项所述之有机电激发光显示 元件,其中该些第一微透镜之材质为红色树脂,该 些第二微透镜之材质为绿色树脂,而该些第三微透 镜之材质为蓝色树脂。 5.如申请专利范围第2项所述之有机电激发光显示 元件,其中该微透镜之材料为透明材料。 6.如申请专利范围第2项所述之有机电激发光显示 元件,其中该介面层之材料包括有机聚合物或无机 聚合物。 7.如申请专利范围第1项所述之有机电激发光显示 元件,其中该有机官能层包括: 多个第一发光单元; 多个第二发光单元;以及 多个第三发光单元,其中该些第一发光单元、该些 第二发光单元与该些第三发光单元阵列排列于该 第一电极层上。 8.如申请专利范围第7项所述之有机电激发光显示 元件,其中每一该些第一发光单元、每一该些第二 发光单元与每一该些第三发光单元至少对应于一 个微透镜。 9.如申请专利范围第1项所述之有机电激发光显示 元件,其中该有机官能层包括白光发光层,位于该 第一电极层上。 10.如申请专利范围第1项所述之有机电激发光显示 元件,其中该接合薄膜之材料包括碳化矽(SiC)、氮 化铝(AlN)、氧化矽(SiOx)或氮化矽(SiNx)。 11.如申请专利范围第1项所述之有机电激发光显示 元件,其中该接合薄膜之厚度系介于1至10m之间 。 12.如申请专利范围第1项所述之有机电激发光显示 元件,其中该接合薄膜包括: 一第一接合薄膜,配置于该第二电极层上;以及 一第二接合薄膜,配置于该第一接合薄膜与该微透 镜阵列层之间。 13.如申请专利范围第12项所述之有机电激发光显 示元件,更包括一紫外光硬化胶,配置于该第一接 合薄膜与该第二接合薄膜之间。 14.一种有机电激发光显示元件之制造方法,包括: 提供一第一基板,该第一基板上具有一第一电极层 ; 形成一有机官能层于该第一电极层上; 形成一第二电极层于该有机官能层上; 形成一第一接合薄膜于该第二电极层上; 提供一第二基板; 形成一微透镜阵列层于该第二基板上; 形成一第二接合薄膜于该微透镜阵列层上;以及 使该第一基板上之该第一接合薄膜与该第二基板 上之该第二接合薄膜接合。 15.如申请专利范围第14项所述之有机电激发光显 示元件之制造方法,其中形成该微透镜阵列层于该 第二基板上之方法包括: 形成一介面层于该第二基板上; 图案化该介面层,以形成多数个凹槽;以及 形成多个微透镜于该介面层之该些凹槽上。 16.如申请专利范围第15项所述之有机电激发光显 示元件之制造方法,其中该介面层为一光敏感层, 而图案化该介面层的方法包括: 藉由曝光制程于该光敏感层上形成该些凹槽。 17.如申请专利范围第15项所述之有机电激发光显 示元件之制造方法,其中该介面层为一非光敏感层 ,而图案化该介面层的方法包括: 于该非光敏感层上形成一光阻层; 藉由曝光制程于该光阻层上形成多个转移凹槽;以 及 以该光阻层为罩幕,蚀刻该非光敏感层,以于该非 光敏感层上形成该些凹槽。 18.如申请专利范围第14项所述之有机电激发光显 示元件之制造方法,其中使该第一接合薄膜与该第 二接合薄膜该接合之方法包括利用紫外光硬化胶 接合。 图式简单说明: 图1绘示为习知有机电激发光显示元件之剖面示意 图。 图2A~2B绘示为另一种习知有机电激发光显示元件 透镜层之制造流程剖面示意图。 图3A~3H绘示为依照本发明第一实施例之有机电激 发光显示元件之制造方法流程剖面示意图。 图4A~4C绘示形成微透镜阵列层之流程示意图。 图5A~5C绘示为本发明介面层为光敏感层时,图案化 介面层的流程示意图。 图6A~6C绘示为本发明之介面层为非光敏感层时,图 案化介面层的流程示意图。 图7绘示为依照本发明第二实施例之有机电激发光 显示元件示意图。 图8绘示为依照本发明第三实施例之有机电激发光 显示元件示意图。 |
