发明名称 外观检查方法及其装置
摘要 一种可更正确判定缺陷是否在容许内的外观检查方法及装置。藉由与被检查体11a的图像21A的检查区域上而来的样板(21A)相比较,以判定抽出的缺陷是否在容许内。把检查区域区分成多个容许度为互不相同的a、b、c的区段28a、28b、28c。当检查区域上抽出的至少一个缺陷部位27跨容许度互不相同的多个区段28a、28b、28c而存在时,对存在各区段28a、28b、28c上的各缺陷部位部份27a、27b、27c,根据该区段28a、28b、28c的容许度a、b、c,预备判定缺陷部位部份的缺陷是否在所在区段的容许内。根据此些预备判定的结果,来判定缺陷部位27的缺陷是否在容许内。
申请公布号 TWI290747 申请公布日期 2007.12.01
申请号 TW094142898 申请日期 2005.12.06
申请人 拓普康股份有限公司 发明人 秋元茂行
分类号 H01L21/66(2006.01) 主分类号 H01L21/66(2006.01)
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项 1.一种外观检查方法,藉由一被检查体的图像的一 检查区域与一样板相比较,以判定抽出的该被检查 体的缺陷是否在容许内,包括: 把该检查区域区分成多个容许度互不相同的区段, 当抽出的至少一个缺陷部位跨容许度互不相同的 多个区段而存在时,对存在于该缺陷部位的该各区 段上的各缺陷部位部份,根据缺陷部位部份存在的 该区段的容许度,预备判定该缺陷部位部份的缺陷 是否在容许内,根据该些预备判定的结果,来判定 该缺陷部位的缺陷是否在容许内。 2.如申请专利范围第1项所述之外观检查方法,还包 括: 对跨该些区段而存在的该缺陷部位,用该缺陷部位 的重心所在的区段的容许度来判定该缺陷部位的 缺陷是否在容许内, 且从前述两个判定结果的比较来判定该缺陷部位 的缺陷是否在容许内。 3.如申请专利范围第1项所述之外观检查方法,其特 征在于,在该些预备判定中,当得出的结果是该些 缺陷部位部份中至少一个该缺陷部位部份的缺陷, 不在该缺陷部位部份所在的该区段的设定容许内 时,便判定该缺陷部位的缺陷在容许外。 4.如申请专利范围第1项所述之外观检查方法,其中 该区段是由对缺陷有不同检查条件形成的各层重 叠而设定。 5.如申请专利范围第1项述之外观检查方法,其中该 些区段的各区段,设定有缺陷容许画素当作示出缺 陷容许度的阀値,该缺陷部位部份的缺陷,藉由比 较示出该缺陷部位部份的画素数与该缺陷容许画 素数,进行是否在容许内的预备判定。 6.一种外观检查装置,包括: 一摄像部,获得一被检查体的图像; 一演算处理回路,对该摄像部所得的图像施以一边 缘检测处理; 一显示器,显示出从该摄像部所得的图像及从该演 算处理回路所处理的图像, 其特征在于其中该演算处理回路包括: 一区段设定部,把从该边缘检测处理所得的图案图 像的检查区域区分成多个区段,该些区段被付予了 示出缺陷容许度的互不相同的阀値; 一缺陷抽出部,比较一样板与该被检查体的图像, 以抽出该被检查体的缺陷部位; 一判定部,把该缺陷抽出部所抽出的缺陷部位所在 的各该区段所设定的各该阀値,与存在各该区段的 该缺陷部位的缺陷部位部份的缺陷相比较,并将比 较结果输出至该显示器。 图式简单说明: 图1是实施本发明的外观检查方法的外观检查装置 的概略方块图。 图2是示出本发明的外观检查方法的被检查体之一 例的半导体晶圆平面图。 图3A是示出图1所示的外观检查装置的摄像部所得 的图像之一例的说明图。 图3B是示出利用图3A所示的图像的边缘检测处理所 得的图案图像的区段设定例的说明图。 图4A是示出区段的检查条件的一个设定例的说明 图。 图4B是示出图4A的区段的检查条件的一个设定例的 其他说明图。 图5A、5B是分别示出抽出的缺陷部位及该缺陷部位 的各区段所设定的缺陷容许度的一例的说明图。 图6A是示出本发明的外观检查方法的教学(teaching) 工程的流程图。 图6B是示出本发明的外观检查方法的检查工程的 流程图。
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