发明名称 修整遮光区域的方法
摘要 一种修整遮光区域的方法,系用于TFT-LCD面板之制程中。 TFT-LCD面板系具有遮光区域,且TFT-LCD面板上系覆有一层遮光材料。此修整遮光区域的方法主要包括:最初,输入供比对的遮光区域图样(pattern);然后,对位遮光区域至遮光区域图样;以及,最后,依据遮光区域图样,去除非覆于遮光区域之遮光材料。
申请公布号 TWI290645 申请公布日期 2007.12.01
申请号 TW092121057 申请日期 2003.07.31
申请人 奇美电子股份有限公司 发明人 林顺清;黄炳勋;杨金添
分类号 G02F1/133(2006.01) 主分类号 G02F1/133(2006.01)
代理机构 代理人
主权项 1.一种修整遮光区域的方法,系用于一薄膜电晶体 液晶显示器TFT-LCD面板(TFT-LCD panel)之制程中,该TFT- LCD面板系具有一遮光区域与一彩色滤光片设置区 域,该遮光区域之外廓线系为该TFT-LCD面板之外廓 线,且该TFT-LCD面板系覆有一遮光材料,该修整遮光 区域的方法至少包括: 提供一比对图样,该比对图样具有一第一外廓线及 一第二外廓线,该第一外廓线与该第二外廓线相隔 一距离,且该第一外廓线包围该第二外廓线; 对位该遮光区域之外廓线至该第一外廓线,而该第 二外廓线系对位于该彩色滤光片设置区域之外廓 线;以及 依据该第二外廓线,去除该第二外廓线以内之部分 的该遮光材料。 2.如申请专利范围第1项所述之修整遮光区域的方 法,其中该TFT-LCD面板更具有一第一彩色滤光片设 置区域及一第二彩色滤光片设置区域,该遮光区域 之外廓线系为该第一彩色滤光片设置区域之外廓 线,该第二外廓线系对位于该第二彩色滤光片设置 区域之外廓线。 3.如申请专利范围第1项所述之修整遮光区域的方 法,其中该方法系用于设置至少一彩色滤光片于该 TFT-LCD面板之前。 4.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该遮光材 料系铬(Cr)。 5.如申请专利范围第1项所述之方法,其中于该依据 步骤中,系利用一雷射光束去除该遮光材料。 6.一种修整透光区域的方法,系用于一TFT-LCD面板之 制程中,该TFT-LCD面板系具有一第一透光区域及一 第二透光区域,该第一透光区域及该第二透光区域 系相隔一距离,该第一透光区域及该第二透光区域 系用以分别设置一第一彩色滤光片及一第二彩色 滤光片,且该TFT-LCD面板系覆有一遮光材料,该修整 透光区域的方法至少包括: 提供一比对图样; 对位该第一透光区域之外廓线至该比对图样之外 廓线; 移动该TFT-LCD面板或该比对图样该距离;以及 依据该比对图样之外廓线,去除该比对图样之外廓 线以内之部分的该遮光材料。 7.如申请专利范围第6项所述之修整透光区域的方 法,其中该方法系用于设置至少一彩色滤光片于该 TFT-LCD面板之前。 8.如申请专利范围第6项所述之方法,其中该遮光材 料系铬。 9.如申请专利范围第6项所述之方法,其中于该依据 步骤中,系利用一雷射光束去除该遮光材料。 图式简单说明: 第1A图绘示乃TFT-LCD面板的示意图。 第1B图绘示乃单一彩色滤光片设置区域中的部分 区域被覆有遮光材料的示意图。 第1C图绘示乃用以说明传统之修整遮光区域之方 法的示意图。 第2图绘示乃相应第1C图之修整遮光区域的流程图 。 第3图绘示乃多个彩色滤光片设置区域同时为遮光 材料所覆盖之示意图。 第4图绘示乃本发明较佳实施例之修整遮光区域之 方法的流程图。 第5A图绘示乃修整遮光区域之方法所使用的遮光 区域图样。 第5B图绘示使遮光区域与遮光区域图样对位的示 意图。 第6图绘示乃本发明另一较佳实施例之修整透光区 域之方法的流程图。 第7图绘示使透光区域与透光区域图样对位的示意 图。
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