| 主权项 |
1.一种光学光罩护膜系统,其包括有: 一个框架,该框架具有一个顶面与底面; 一个光罩护膜,该光罩护膜被构型来覆盖该框架之 顶面; 一个光罩,该框架的底面被固定到该光罩;以及 至少一个排气槽,该(等)排气槽被界定在该光罩中, 其在该框架之下从一个界定于该框架内的区域延 伸到该框架外的一个区域。 2.如申请专利范围第1项之光学光罩护膜系统,其更 包括有:一个黏着层,该黏着层被定位在该框架与 该图案之间,以将该框架固定到该处。 3.如申请专利范围第2项之光学光罩护膜系统,其中 ,该黏着层至少部份地延伸入该等排气槽的其中一 个之内。 4.如申请专利范围第1项之光学光罩护膜系统,其更 包括有:复数个排气槽。 5.如申请专利范围第1项之光学光罩护膜系统,其中 ,该等排气槽的至少其中一个是成梯级状的。 6.一种用于形成一排气式光罩护膜所保护的光罩 之程序,其包括下列步骤: 建构一个光罩,该光罩具有至少一个于其中向外延 伸的排气槽; 将一个框架化的光学光罩护膜定位在该光罩之上, 该光罩护膜包括有:一个光罩护膜框架,该光罩护 膜框架具有一个被固定到该处的光罩护膜; 将该光罩护膜框架摆置在该排气槽之上,使得该排 气槽从超过该框架的一边缘延伸到超过另一边缘; 以及, 将该框架摆置在该光罩之上。 7.如申请专利范围第6项之程序,其更包括有:在将 该光罩护膜框架摆置在该光罩上之前,将黏着剂涂 布到该光罩护膜框架。 8.如申请专利范围第7项之程序,其更包括有:在将 该光罩护膜框架摆置在该光罩上之前,将黏着剂涂 布到该光罩。 9.如申请专利范围第6项或第7项之程序,其更包括 有:容许黏着剂至少部份通过进入到该等沟槽。 10.一种光罩,其包括有:一个图案界定于其中,该图 案对应一种于微影制程期间要被蚀刻的电路,该光 罩进一步包括有:复数个沟槽,该等沟槽从邻近图 案化的部份向外延伸。 11.如申请专利范围第10项之光罩,其中,该图案与该 等沟槽由涂布到该基板的至少一层铬层所界定。 12.如申请专利范围第10项之光罩,其中,该等沟槽至 少2 mm长。 13.如申请专利范围第10项之光罩,其中,该等沟槽接 近1微米平方。 14.如申请专利范围第10项之光罩,其中,该等沟槽成 梯级状的。 15.一种用于排气一光罩护膜式光罩的程序,其包括 有: 建构一个光罩,该光罩具有一个形成在其至少一表 面上的图案,该图案对应一种于微影制程期间要被 蚀刻的电路,该光罩进一步包括有:复数个界定于 其中而向外延伸的排气沟槽; 将一个框架化的光罩护膜固定到该光罩,该光罩护 膜包括有:一个光罩护膜框架,该光罩护膜框架具 有一个光罩护膜,该光罩护膜被固定到其上表面处 ,该光罩护膜框架具有一个下表面,该下表面被固 定到该光罩,使得至少某些沟槽从该光罩护膜框架 一个内部的点延伸到该光罩护膜框架一个外部的 点;以及 藉由容许空气通过该等排气槽的方式横越该光罩 护膜框架来排气。 16.如申请专利范围第15项之程序,其更包括有:在将 该框架化的光罩护膜固定到该光罩之该等步骤之 前,将黏着剂涂布到该光罩护膜框架的下方表面与 一部份光罩之下方表面的其中之一或是两者,该光 罩护膜框架被固定到该光罩,并且在该黏着剂进入 与该光罩接触之后,容许该黏着剂通过进入到至少 一个沟槽的至少一部份。 图式简单说明: 图1为一个先前技艺的光学光罩护膜的一个侧剖面 视图,该光学光罩护膜被固定到一个铬被覆式光罩 ,其中,该光罩护膜的框架具有一个形成于其中的 排气孔洞,其具有一个过滤器被定位在该孔洞的外 边上。 图2为本发明一个第一实施例的上视图,其显示一 个框架化的光罩护膜,该光罩护膜被固定到一个光 罩。 图3为图1的实施例之一角隅的一个局部放大之上 视图。 图3A为对应图3的一个视图,其描述说明本发明的一 个第二实施例。 图3B为对应图3的一个视图,其描述说明另一个显示 三种可能的沟槽构型之实施例。 图4为图3中沿着直线4-4的一个局部侧剖面视图。 图5为图3中沿着直线5-5的一个局部端部剖面视图 。 图6为一个对应图5的局部放大视图。 |
