沈积含金属薄膜的装置的清洗方法

摘要

本发明提供一种使用有机金属源来沈积含金属薄膜之装置之清洗方法。含氟(F)气体和除碳(C)气体被供应到装置之反应器从而可以实施现地清洗。本发明清洗方法不会产生固体副产品，而且在处理一定数量之晶圆后，可以不暴露反应器于空气之情况下对装置实施现地清洗，从而使装置之生产力可以最佳化。